Transparent Conductive Materials (TCM)

Responsabile scientifico: Prof. Antonio Terrasi
Luogo: Ed. 6, piano -2

Il Laboratorio Transparent Conductive Materials è dedicato alle deposizioni fisiche da stato vapore (PVD) di film sottili tramite magnetron sputtering deposition.
È equipaggiato con tre sistemi di deposizione che permettono la sintesi di molteplici materiali, da metalli puri a leghe ceramiche e altri ossidi.
Grazie alla versatilità della tecnica di sputtering e alla disponibilità di più sistemi fra loro complementari, all’interno del laboratorio è possibile crescere film sottili di materiali rilevanti per applicazioni che vanno dal fotovoltaico alla sensoristica, dalla fotonica alla micro- e nano- elettronica, ecc..
La sputtering deposition avviene all’interno di apposite camere ad alto vuoto, in cui gli ioni altamente energetici di un gas (Argon, Azoto, Ossigeno) vaporizzano atomi del materiale da depositare, i quali si depositano su substrati di qualsiasi tipo, producendo una deposizione rapida, uniforme e priva di contaminazioni.
In laboratorio è anche presente una cappa chimica, necessaria per condurre in sicurezza ogni operazione che possa rilasciare sostanze nocive in aria, come ad esempio la preparazione dei substrati preliminare alla deposizione, che di solito viene eseguita trattando i suddetti con una soluzione acquosa di Acido Fluoridrico.
 

Attrezzature

NanoPVD-S10A by Moorfield Technology:Benchtop RF and DC magnetron sputtering system
	Sistema di sputtering versatile per metalli, semiconduttori e materiali isolanti. Compatto come un coater per microscopia elettronica, ma con componenti di altissima qualità per deposizioni allo stato dell’arte

RF magnetron sputtering by Leybold Systems

Sistema per RF magnetron sputtering con una camera più ampia rispetto al NanoPVD-S10A, con un piattello per campioni dal diametro di 10 cm per deposizioni uniformi sull’intera superficie. È equipaggiato con tre sorgenti di materiali, ciascuna dotata di generatore di potenziale indipendente. All’interno della camera è possibile generare un vuoto spinto minore di 10-6 mbar, così da prevenire contaminazioni e da garantire controllo ottimale sull’atmosfera durante la deposizione.

K550X RF-sputtering coater by Emitech
	Sputter Coater da tavolo compatto dotato di una sorgente DC, ottimale per metallizzare i campioni e depositare velocemente film sottili e uniformi di metalli.

EV O Lite Fume Cupboard by BICASA
	Cappa chimica interamente in alluminio, capace di contenimento <0.01 ppm a tutte le velocità di operazione. Equipaggiata con illuminazione interna, scarico per acqua, prese di corrente e interruttore di sicurezza.